运营商财经网 八卦叨/文
都说中国芯片业最缺的是光刻机，闹了半天才发现，就算中国买到了光刻机也不够，中国还缺光刻胶、掩膜版等各种芯片生产材料。
近年来，因为华为被美国卡脖子，既买不到芯片，自己研发的芯片又没人敢代工，后来，大家就开始对光刻机感兴趣了，因为大家发现，光刻机是中国最缺的芯片核心设备之一，导致中芯国际无法更早上马7纳米芯片工艺，也无法给华为代工。
可是，如今又发现，就算全球最先进的光刻机企业荷兰阿斯麦公司肯冒风险卖EUV光刻机给中国，中国还有多道难关受制于西方企业，比如光刻胶。
光刻胶是芯片中微细图形加工的关键材料之一，1954 年由明斯克等人首先研究成功。
光刻胶其实与照相机冲洗胶卷的原理一样，它本身是一种有机化合物，它被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面，而后被干燥成胶膜。
大家都知道，光刻机是芯片生产中最尖端的核心设备之一，而光刻胶则是芯片制造领域最难生产的耗材。也是光刻机最复杂的耗材，虽然跟相机胶卷的原理大致一样，但光刻胶的分辨率远远高于普通胶卷，胶卷一般只能显示肉眼可见的图案，而光刻胶的图案是显微镜都难以看清楚的。
光刻胶还涉及到专利保护的问题。国内公司即使知道光刻胶的配方和生产工艺，也不能随便生产，因为会侵犯人家的专利。所以，全球光刻胶行业呈现寡头垄断格局，长年被日本、欧美专业公司垄断。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度较高。其中，日本JSR、东京应化、日本信越与富士电子材料市占率加和达到72%。而中国在高端光刻胶领域的情况非常糟糕。
（责任编辑：杨丹丹）
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