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最近传来爆炸性消息，称有中国企业要收购日本芯片半导体光刻机，似乎能解决中国芯片代工企业之痛，但可能吗？
在华为被台积电断供之前，光刻机基本上只有业内任知道，而台积电、中芯国际、三星等几乎所有芯片代工企业不敢给华为芯片代工之后，光刻机一夜成名，成为科技业最热的话题。
实际上，光刻机也确实是芯片制造业中最顶级的技术之一。光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，其原理其实与照相机一样，所以，最有名的照相机厂商往往就是最好的光刻机厂商，比如日本的尼康、佳能，曾在上个世纪八九十年代几乎垄断了光刻机市场。
中国虽然自称在上个世纪六十年代就开始研发光刻机，1978年，电子1445所把加工芯片的直径从50毫米提高到75毫米，自动化程度有所提高，但还是没有摆脱接触式光刻机。同一年，中国科学院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机，并在1981年研制成功两台样机。从上可看到，中国研发光刻机的始终是一些科研机构，研究出样机之后就欢呼雀跃，宣布成功，但实际上中国的光刻机技术离国际领先水平相差太远。
以华为此次断供为例，台积电给华为断供情有可原，可是，连位于上海的中芯国际都不敢给华为代工。为何呢？因为中芯国际迄今都买到一台荷兰ASML公司的高端光刻机，没有荷兰ASML公司的高端光刻机，中芯国际就会被美国卡脖子，自己的生存都成问题。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，荷兰ASML公司的高端光刻机是沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路，直至5纳米。
而中国的还停留在投影式光刻机的水平。2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。即便这样，这种光刻机啥时能被企业这种所用，也是个未知数。
（责任编辑：杨丹丹）
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