运营商财经 康钊/文
全球最大的光刻机企业荷兰ASML对中国的态度非常矛盾，其CEO说，美国严厉的芯片管控规定，只会倒逼中国厂商进步更快。但这种话千万别信，实际上ASML还有一套说法，那就是瞧不上中国光刻机设备的研发能力。
根据Jefferies证券的报告称，由于技术本身和生态系统的复杂性，ASML 认为“在可预见的未来”，其在 EUV 技术领域不会面临来自中国光刻设备公司的竞争。这话有一定道理，中国的光刻机连28纳米工艺都还迟迟没突破，研发进展非常缓慢。
中国的光刻机技术到底在什么程度了呢？早在2020年就有文章称，中科院苏州研究所已经研发成功了新型5nm高精度的激光光刻技术，标志着我国的5nm光刻技术取得了重大进展。据悉，负责研发这项纳米激光光刻技术的张子旸团队已经开发了一种新型的三层堆叠薄膜结构，再通过双激光束交叠，对能量密度及其波长进行精确控制，在线宽上面能够将宽度精确到5纳米。据称，这与ASML的EUV极紫外光刻技术完全不同，但很难可惜，这只是实验室的技术，离商用相差太远。而且，4年过去了，也没见到这种光刻机的影子。
实际上，宣称自己在光刻机技术上取得研发突破的国内研究机构还不少，比如清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与德国的研究团队25日在《自然》杂志上发表论文，报告了一种名为“稳态微聚束”（SSMB）的新型粒子加速器光源的原理验证实验。据悉，这项重要研究有望为光子科学研究提供新的机遇，并助力EUV（极紫外）光刻机的自主研发。问题是中芯国际用得上该技术吗？给华为加工芯片用得上该技术吗? 资料显示，ASML先进的标准型EUV光刻机就拥有超过10万个零件，涉及到上游5000多家供应商。这些零部件极为复杂，对误差和稳定性的要求极高，并且这些零件几乎都是定制的，90%零件都采用的是世界上最先 进技术，85%的零部件是和供应链共同研发。光靠那些博士导师能研究出实际可用的光刻机吗?
（责任编辑：韩丽）
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