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光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它的原技术理与冲洗相片胶卷一样，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，所以，全世界最先进的光刻机厂商往往是照相机行业的，比如佳能、尼康曾经占据光刻机市场的50%以上市场份额。
但如今全世界最先进的光刻机厂商却是荷兰的ASML公司，中国很多光刻机都是从荷兰ASML公司进口，但近日荷兰ASML公司在发布财帛时透露了很多向中国出口光刻机的信息，才让中国人明白，原来荷兰ASML没有把最好的光刻机卖给中国。
为何这么说呢？运营商财经网认为，首先，2020年第三季度ASML光刻机净销售额达31亿欧元，中国大陆市场的营收占到21%。但荷兰ASML公司的CEO承认，向中国出口的都是DUV光刻机，他都没提向中国出口了EUV光刻机，说明几乎没有向中国出口了EUV光刻机。
其次，光刻机曝光系统最核心的部件之一是紫外光源，常见光源分为深紫外光（DUV），极紫外光（EUV），两者性能相差很大，DUV只能用于248nm至193 nm芯片，而EUV能用户3 ~ 15 nm芯片。苹果、华为的手机芯片如今都是7nm甚至5nm，没有EUV光刻机，苹果、华为的手机芯片根本就造不出来，所以，荷兰ASML向中国出口的DUV光刻机的技术含量太低了。
另外，荷兰ASML公司的EUV光刻机表面上是被三星、台积电、英特尔等抢光了，实际上还是不吭卖给中国。2018年，中芯国际就已经向ASML公司订购了一台EUV光刻机，迄今都未到货，真气人。所以，中国还是要尽快提高自己的光刻机技术，免得被人卡脖子。
（责任编辑：韩丽）
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