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中科院突然宣布要研发光刻机，把大家吓一跳，真的能赶上吗？在回答这个问题前，我们先了解一下整个半导体行业背后的摩尔定律。
其实按照摩尔定律，35nm就是极限，2011年英特尔推出FinEFT技术，才有了22nm以上的技术。但是现在FinFET已经到极限了，台积电又研究出GAA技术给摩尔定律续命，这也是台积电能突破2nm的原因。但是台积电自己也承认2nm工艺是一个重要节点。
也就是说，2nm技术是一个瓶颈期，这不仅是台积电的瓶颈期更是全人类的，再者每缩小1nm就代表成本成倍提高，一座能生产14nm芯片的厂房需要100亿美元以上，2nm怕是很多企业承受不了的天文数字，有技术并不能保证有市场，也不能保证不亏损。我们可以认为，现在最先进的技术已经逼近终点，等着我们赶超。
回头看看中科院研发光刻机，并不是没有任何基础。上海微电子技术公司已成功突破了22nm光刻机的工艺技术，而今年7月，中科院苏州研究成功研发新型5nm高精度的激光光刻技术，并且是独立于ASML公司之外的一种新型技术路线，绕开了ASML的技术壁障。所以，并不是没可能。
（责任编辑：杨丹丹）
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高精度光刻技术
