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目前，很多人一听说华为招光刻机工程师就以为华为立刻能研发出光刻机。但运营商财经网总编辑康钊认为，实际上，华为5年内估计也难研发出光刻机。这是因为光刻机技术难度太大了。
以下为康钊观点全文：
高端光刻机号称世界上最精密的仪器，堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。
而中国科学院半导体所开始研制JK-1型半自动接近式光刻机并在1981年研制成功两台样机。当时中国已经知道分步投影光刻技术的显著优点，但是苦于国内生产工艺尚不成熟，所以很难实现。
为何呢？因为能研发出光刻机，没有产业化也没用。据了解，我们国家的光刻机研发一直是国有科研单位下面的上海微电子在研发，但与市场脱节。
那时流行的是自己做不如买，自己研发不如进口。所以，有人总结说，中国的光刻机研发一直有亮点，但始终被甩在后面。
而且，中国对自己研发的光刻机的自我评价还一直比较高。1985年，电子45所研制出了分步光刻机样机，通过技术鉴定时，还认为达到美国4800DSW的水平。当时认为，按照这个时间节点算，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年(美国是1978年)。
可实际呢？比美国相比落后7年并不是指落后于全球7年。因为美国的光刻机技术当时并不是全球最先进的，全球最好的光刻机当时是日本的尼康、佳能等。
所以，即便华为来研发光刻机也需要有清醒的认识，荷兰ASML公司花了吃奶的力气才研发出EUV光刻机，单台EUIV设备里超过十万个零件，4万个螺栓以及3000多条线路。仅仅软管加起来，就有两公里长。这么一台庞大的设备，重量足足有180吨。而且，里面还要大量的高端化学材料。这些高端化学材料又掌握在日本企业手里，如果日本企业不肯卖，那就糟了，相当于线索中断了。
为何说即便华为集中精力研发光刻机至少也要5年呢？因为难度太大了，且需要全产业链的配合。指甲盖大小的芯片，密布千万电线，纹丝不乱，需要极端精准的照相机——光刻机。光刻机精度，决定了芯片的上限。
光刻机的研制技术难点主要是解决精密度问题，光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，其难度可想而知，所以这需要持续的研发和技术攻关。此外，我国光刻机的研发还面临资金和人才的调整。研发光刻机这种高精尖设备投入大、投资回报时间长，
所以，对华为研发光刻机也不可盲目乐观，只能说华为有决心，是好事。
不过，即便如此，华为也需要尽早开始研发光刻机，光刻机技术再难，也不可能难过5G等通信技术，对于华为来说终究能克服。
而光刻机对于芯片制造来说是非常关键的一环，没有高端光刻机，荷兰ASML又不肯卖给华为光刻机的话，华为自建芯片厂就是泡影。
作者简介：康钊，运营商财经网CEO兼总编辑、中国网络媒体原创的开创者，曾先后任南方周末驻京记者、新浪网首席记者，曾被业界称为“网络媒体第一记者”。
（责任编辑：杨丹丹）
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