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光刻机被认为是芯片制造业的核心工艺，也是中国芯片业被卡脖子的核心技术之一。在2006年，生产商ASML推出了EUV光刻机模型，在研发过程中英特尔、三星电子和台积电纷纷投入。可迄今中国一台都没买到。
据悉，在2018年初，ASML与中芯国际达成EUV光刻机采购订单，价值约1.2亿美元，原本预计在2019年底交付。但因荷兰政府没有向ASML发放新的出口许可，导致未能交付。
后来，在新冠疫情影响下，ASML表示光刻机生产制造未受影响，需求也没有发生变化，但供应链被限制，导致交付延期。
据中芯国际董事长周子学表示，公司目前量产和主要在研项目暂不需要EUV光刻机，关于设备采购则依据相关商业协议不对单一设备情况进行评论。至于交货时间，“采购目前如常”。
不过，中芯国际对外披露，第一代14纳米FinFET技术已经进入量产，第二代则在持续客户导入。对于后续，中芯国际联席CEO梁孟松曾透露，在当前的环境下，N+1、N+2代工艺都不会用EUV工艺，等到设备就绪之后，N+2之后的工艺才会转向EUV光刻工艺。不过，业界普遍认为，N+2之后的先进制程必须依赖EUV光刻机实现。
而芯片业投资巨大，但中芯国际马上就会不缺钱了。周子学表示，若采取绿鞋机制，中芯国际预计募集资金净额为525亿元，远超此前招股书中计划的拟募资200亿元。
（责任编辑：杨丹丹）
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